Revestimento antirreflexivo em vidros voltado para sistemas heliotérmicos: deposição de sílica pelo processo sol-gel
| dc.contributor.advisor | Nunes, Rogério Antônio Xavier | |
| dc.contributor.advisor-co | Costa, Vilma Conceição | |
| dc.contributor.advisor-coLattes | http://lattes.cnpq.br/4741083655487998 | |
| dc.contributor.advisorLattes | http://lattes.cnpq.br/5290987560774762 | |
| dc.contributor.author | Silva, Débora Guimarães da | |
| dc.contributor.authorLattes | http://lattes.cnpq.br/6595096723304254 | |
| dc.contributor.referee | Silva, Guilherme Marconi | |
| dc.contributor.referee | Sade, Wagner | |
| dc.date.accessioned | 2025-03-27T12:13:27Z | |
| dc.date.available | 2025-03-27T12:13:27Z | |
| dc.date.issued | 2016-04-20 | |
| dc.description.abstract | Filmes antirreflexivos são de fundamental importância para um bom aproveitamento da energia solar em usinas heliotérmicas, pois aumentam a transmitância da luz solar através da redução de perdas por reflexão. Este trabalho trata da deposição, através do método sol-gel, de uma fina camada de revestimento antirreflexivo, constituído de sílica, sobre a superfície de um substrato vítreo. Os filmes foram confeccionados utilizando a técnica do dip-coating em diferentes velocidades, e passaram por um tratamento térmico a 425 °C durante 30 minutos. Foram observados os efeitos do tratamento térmico e velocidade de deposição do filme na refletância das amostras. Na etapa de caracterização foram feitos ensaios de refletância difusa na região do ultravioleta-visível, microscopia eletrônica de varredura, espectroscopia de fluorescência de raios X, difratometria de raios X e medições do ângulo de contato da água sobre a superfície dos filmes. As características mecânicas dos filmes foram avaliadas por teste de adesão da fita e dureza pelo lápis. Os filmes com melhores resultados de refletância foram submetidos a tratamento químico através do uso de um agente modificador de superfície para torná-la hidrofóbica, evitando assim que sujidades impregnem na superfície. Para se alcançar melhores resultados de refletância e molhabilidade, foi adicionado ao sol um agente formador de poros. Todos os filmes se apresentaram uniformes e isentos de trincas, conforme observado na microscopia eletrônica de varredura. Foi possível obter um filme antirreflexivo à base de sílica porosa com refletância difusa média entre os comprimentos de onda de 350 e 900 nm de 2,02% e ângulo de contato de 118,32°. Os filmes apresentaram uma adesão de 4B e dureza superior a 2H. Palavras chave: Revestimento antirreflexivo, filme fino de sílica, sol-gel, dip-coating, energia solar. | |
| dc.description.abstractother | Antireflective coatings are fundamental for a good use of solar energy in heliotermics plants, it increases the transmittance of sunlight by reducing reflection losses. This work deals with the deposition of a thin layer of porous silica antireflective coating onto glass substrates. The films were deposited at different withdrawal speeds and heat-treated at 450 °C for 30 minutes. The effects of heat treatment and the deposition rate on the films' reflectance were evaluated. The diffuse reflectance was measured using an UV-Vis. Scanning electron microscopy was used for microstructural evaluation of the films. The water contact angle upon the films surface was evaluated using a tensiometer and it was done based on the sessile drop technique. X-ray fluorescence spectroscopy was used to identify the chemical elements presents on the vitreous substrate and on the silica film. X-ray diffraction was conduct to confirm the silica amorphous phase. The mechanical characteristics were evaluated by tape test and pencil hardness. The films that had better reflectance results were submitted to chemical treatment through the use of a surface modifying agent in order to turn the films surface hydrophobic, avoiding dirt to impregnate the surface. To achieve best results of reflectance and wettability it was added in the sol a pore forming agent. All the silica coatings were homogeneous and free of cracks, as observed by SEM images. It was possible to obtain an antireflective porous silica film whit a diffuse reflectance of 2.02%, in the wavelength rang of 350 to 900 nm, and a contact angle of 118.32°. The films showed an adhesion 4B and hardness greater than 2H. Keywords: Antireflective coating, silica thin film, sol-gel, dip-coating, solar energy. | |
| dc.description.sponsorship | Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES) | |
| dc.identifier.uri | https://repositorio.cefetmg.br//handle/123456789/977 | |
| dc.language.iso | pt | |
| dc.publisher | Centro Federal de Educação Tecnológica de Minas Gerais | |
| dc.publisher.country | Brasil | |
| dc.publisher.department | Departamento de Engenharia de Materiais | |
| dc.publisher.initials | CEFET-MG | |
| dc.publisher.program | Programa de Pós-Graduação em Engenharia de Materiais | |
| dc.subject | Energia Solar | |
| dc.subject | Filmes finos – Propriedades ópticas | |
| dc.subject | Tribologia | |
| dc.subject | Nanotecnologia | |
| dc.title | Revestimento antirreflexivo em vidros voltado para sistemas heliotérmicos: deposição de sílica pelo processo sol-gel | |
| dc.type | Dissertação |
Arquivos
Pacote Original
1 - 1 de 1
Carregando...
- Nome:
- Revestimento antirreflexivo em vidros voltado para sistemas heliotérmicos deposição de sílica pelo processo sol-gel.pdf
- Tamanho:
- 5.68 MB
- Formato:
- Adobe Portable Document Format
Licença do Pacote
1 - 1 de 1
Nenhuma Miniatura disponível
- Nome:
- license.txt
- Tamanho:
- 1.39 KB
- Formato:
- Item-specific license agreed to upon submission
- Descrição: