Estudo dos parâmetros de processo para a produção de filmes finos à base de sílica e titânia processados por Sol-Gel
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Data
2016-09-26
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Editor
Centro Federal de Educação Tecnológica de Minas Gerais
Resumo
Foram desenvolvidas sínteses à base de SiO2, TiO2 e de híbridos SiO2-TiO2 usando o TEOS (tetraetil-ortossilicato) e TIP (isopropóxido de titânio) como precursores de sílica e titânia, respectivamente. A partir destas sínteses, monocamadas e duplas camadas de filmes finos puros e híbridos foram depositados sobre substrato de vidro pelo método sol-gel dip-coating. Variando velocidade de deposição dos filmes finos, tratamentos térmicos foram realizados sob diferentes temperaturas por um tempo mínimo de aquecimento de 30 min. Os filmes finos apresentaram transparência, homogeneidade, ausência de trincas, boa aderência e dureza. A influência da composição na estrutura e nas propriedades morfológicas foram estudadas por difração de raios X e microscopia eletrônica de varredura revelando uma estrutura anatásio para filmes finos 100%TiO2 com tamanhos de cristalito em torno de 17 - 39 nm. O estudo da propriedade reflexiva realizado através de análises de espectrofotometria UV-Vis juntamente com medidas de ângulo de contato revelou tanto características reflexivas quanto antirreflexivas e autolimpantes associadas a uma super-hidrofilicidade natural.
Descrição
Palavras-chave
Filmes finos, Sílica, Dióxido de titânio